삼성전자가 '반도체 비전 2030'로드맵을 발표하고 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발(R&D)·생산시설 확충에 133조원을 투자 하기로 했다.또 전문인력 1만 5000명을 채용하겠다고 밝혔다.

24일 삼성전자에 따르면 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자한다.또 기술경쟁력 강화를 위해 시스템 반도체 R&D·제조 전문인력 1만 5000명을 채용한다.

이 같은 삼성의 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조원의 R&D·시설투자가 집행되고 생산량이 증가하면서 42만명의 간접 고용유발 효과가 있을 것으로 예상 된다며 삼성전자가 설명했다.

앞서 문재인 대통령은 지난달 19일 국무회의에서 "메모리 반도체에 비해 상대적으로 경쟁력이 취약한 비메모리 반도체 분야의 경쟁력을 높여 메모리 반도체 편중 현상을 완화하는 방안을 신속히 내놓기 바란다"고 주문한 바 있다. 

삼성전자는 지난 2015년 평택 사업장 제1생산라인을 착공하면서 2021년까지 30조원을 투자하겠다는 계획을 내놓은 데 이어 2017년에는 파운드리 반도체 위탁생산 사업부를 분리했다. 또 지난해에는 화성 사업장에 최첨단 EUV(극자외선) 전용라인 투자계획을 발표한 바 있다.

삼성은 지난해 8월에는 인공지능(AI), 5G, 바이오, 전장부품 등 4대 미래성장 사업을 중심으로 총 180조원 규모의 투자와 고용 방안을 발표했다.

아울러 국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 제품 개발 기간도 단축할 수 있도록 △인터페이스 IP, △아날로그 IP, △시큐리티 IP 등 설계 관련 지식재산권(IP)을 지원할 방침이다.